A radiation imaging apparatus that performs radiation imaging by detecting radiation emitted from a radiation source, wherein, in a case where the radiation imaging apparatus is in a standby state in which the radiation imaging apparatus awaits an activation signal transmitted from a control apparatus that controls the radiation imaging apparatus, the radiation imaging apparatus transmits internal information about the radiation imaging apparatus to the control apparatus.

• 출원번호 : 18923250
• 출원인 : ISHINARI, YUTAKA
• 특허번호 :
• IPC : G01T-001/175(2006.01);G01T-007/00(2006.01);H04N-023/65(2006.01);H04N-023/661(2006.01);

Interstitial brachytherapy is a cancer treatment in which radioactive material is placed closely to the target tissue of the affected site using an afterloader (HDR-brachytherapy) or manually (LDR- and PDR-brachytherapy). For HDR-brachytherapy, the accuracy of this placement is calibrated using an external reference system that locates the radioactive material according to the radiation levels measured at locations around the source. At each of these locations, a scintillator produces light when irradiated by the radioactive material. This light is proportional to the level of radiation at each location. The light produced by each scintillator is converted to an electrical signal that is proportional to the light and the radiation level at each location. The radioactive material is located according to the plurality of electrical signals.

• 출원번호 : 18923165
• 출원인 : da Conceição Moutinho, Luis Miguel
• 특허번호 :
• IPC : A61B-006/42(2006.01);A61B-006/00(2006.01);A61B-006/40(2006.01);A61N-005/06(2006.01);A61N-005/10(2006.01);

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dosemeter and a system that can confirm, in real time, the result of detection of radiation from a position away from where the radiation is being detected.SOLUTION: A dosemeter 10 includes: a radiation detector 100 for receiving radiation and emitting light; an optical fiber 200 for transmitting light that the radiation detector 100 emitted in response to receiving radiation; a light detector 310 for detecting light transmitted by the optical fiber 200; and a wireless sending unit 330 for wirelessly transmitting detection data detected by the light detector 310.SELECTED DRAWING: Figure 1

• 출원번호 : 2024184742
• 출원인 : TORECK CO LTD;TOHOKU UNIV;
• 특허번호 :
• IPC : G01T-001/20(2006.01);A61B-006/00(2024.01);

The present disclosure is related to systems and methods for radiation. The method may include obtaining a plurality of reference images of a target of a subject and reference physiological motion information of the subject. The plurality of reference images and the reference physiological motion information may be acquired in a radiation period. The method may include establishing a correlation model based on the plurality of reference images and the reference physiological motion information. The method may include monitoring real-time motion information of the target based on the correlation model during a radiation operation performed during the radiation period.

• 출원번호 : 18922297
• 출원인 : SHANGHAI UNITED IMAGING HEALTHCARE CO., LTD.
• 특허번호 :
• IPC : A61N-005/10(2006.01);G06T-007/00(2006.01);G06T-007/246(2006.01);

A multi-optic system has a unitary lens with two or more co-molded individual optics molded such that each individual optic is adjacent at least one other individual optic, each individual optic configured to be illuminated with a respective radiation source, and a skirt extending from a perimeter of the front surface of the unitary lens. An optical-blocking barrier is positioned between adjacent individual optics and configured to prevent transmission of undesired source emissions between the adjacent individual optics. A substrate on which radiation sources are carried and at least one of the skirt and the optical-blocking barrier enclose the multi-optic system.

• 출원번호 : 18921572
• 출원인 : Pickholz, Michael F.
• 특허번호 :
• IPC : G02B-003/00(2006.01);F21S-041/143(2006.01);F21S-041/26(2006.01);F21S-041/32(2006.01);F21S-043/31(2006.01);F21V-007/00(2006.01);

본 발명은 원자력발전소의 해체 시에 발생되는 방사성 오염 토양의 처리방법 및 그 처리장치에 관한 것으로, 그 목적은 원자력발전소의 해체 시 발생되는 대량의 방사성 오염 토양을 2차 방사성폐기물의 발생 없이 간편하고 신속하게 처리하는 동시에 발생되는 방사성 토양 폐기물량을 크게 감용(感容)함은 물론 처리비용도 현저히 절감할 수 있도록 하는 것이며, 그 구성은 원자력발전소의 해체 시 발생된 방사성 오염 토양(RPS)에 대한 신속한 방사능 검출을 실시하는 예비 방사능 검출단계와; 상기 예비 방사능 검출단계에서 검출된 방사선량 값이 자체 처분 허용 농도 미만이라면, 해당 방사성 오염 토양(RPS)에 대한 정밀 방사능 검출을 실시하는 제1 정밀 방사능 검출단계와; 상기 예비 방사능 검출단계 및 제1 정밀 방사능 검출단계에서 검출된 방사선량 값이 자체 처분 허용 농도 이상이라면, 해당 방사성 오염 토양(RPS)을 거름망수단을 사용하여 2개의 입자의 크기로 분류하는 토양 입도 분류단계와; 상기 토양 입도 분류단계를 통해 분류된 작은 입자 토양(SS)에 대한 정밀 방사능 검출을 실시하는 제2 정밀 방사능 검출단계와; 상기 토양 입도 분류단계를 통해 분류된 큰 입자 토양(BS)에 대한 정밀 방사능 검출을 실시하는 제3 정밀 방사능 검출단계와; 상기 제1 내지 제3 정밀 방사능 검출단계에서 실시한 정밀 방사능 검출에 의해 검출된 방사선량 값이 기준값 미만인 해당 방사성 오염 토양(RPS), 작은 입자 토양(SS) 및 큰 입자 토양(BS)에 대하여 자체 처분하도록 분류하는 자체 처분 분류단계와; 상기 제1 내지 제3 정밀 방사능 검출단계에서 실시한 정밀 방사능 검출에 의해 검출된 방사선량 값이 기준값 이상인 해당 방사성 오염 토양(RPS), 작은 입자 토양(SS) 및 큰 입자 토양(BS)에 대하여 드럼 포장하여 방사성폐기물로 처분하도록 분류하는 방사성폐기물 처분 분류단계로 구성되는 것을 특징으로 한다.

• 출원번호 : 10-2024-0142581
• 출원인 : 주식회사 엘씨젠
• 특허번호 : 10-2780936-0000
• IPC : G21F-009/34;B07B-001/28;B07C-005/06;B09C-001/00;B65G-043/08;B65G-047/44;G01T-001/167;

본 발명은 본 발명에 따른 원자력발전소의 해체 시에 발생되는 액체 방사성폐기물의 통합 처리장치에 관한 것이며, 그 목적은 원자력발전소의 해체 시 발생되는 액체 방사성폐기물을 각 성상(性狀)에 따라 적합한 공정으로 처리하여 그 처리결과물인 방사성폐기물을 크게 저감되고 처리비용도 절감될 수 있도록 효율적으로 처리할 수 있도록 하는 것이며, 그 구성은 저농도, 고농도 및 유기 액체 방사성폐기물을 각각 구분하여 임시 저장하는, 필요 시에 저장된 액체 방사성폐기물을 배출하는 복수개의 저장탱크로 구성되는 액체 방사성폐기물 저장부와; 상기 액체 방사성폐기물 저장부의 각 저장탱크의 배출구와 각각 연통되게 연결되고, 각각의 저장탱크로 부터 이송되는 저농도, 고농도 및 유기 액체 방사성폐기물 내에 포함된 이물질, 오일, 불순물, 침전물 및 고체를 분리하여 수집하고, 유기 액체 방사성폐기물 내에 포함된 유기 화합물을 분해하고, 분리된 이물질, 오일, 불순물, 침전물 및 고체를 잡고체 방사성폐기물로 분류하여 처리하고, 유기 액체 방사성폐기물 내에 포함된 유기 화합물을 분해하는 전처리부와; 상기 전처리부를 통과하여 이송되는 액체 방사성폐기물 내에 함유된 방사성 오염물질을 제거하고, 방사성 오염물질이 제거된 액증기가 함유된 배기체를 배기체와 배출액으로 기액 분리하는 본처리부와; 상기 본처리부를 통과하여 이송되는 배기체와 배출액를 정화하고, 정화된 배기체 및 배출액을 건축물의 배기 및 배수계통으로 배출하는 후처리부와; 상기 액체 방사성폐기물 저장부, 전처리부, 본처리부 및 후처리부의 각종 감지수단, 구동 및 개폐작동 부속기기들과 각각 연결되고, 각 부속기기들의 작동을 제어하고, 작업자의 제어명령을 입력하는 제어반으로 구성되는 것을 특징으로 한다.

• 출원번호 : 10-2024-0142560
• 출원인 : 주식회사 엘씨젠
• 특허번호 : 10-2794758-0000
• IPC : G21F-009/20;B01D-046/56;B01D-005/00;C02F-001/08;C02F-001/40;C02F-001/44;C02F-001/46;C02F-001/52;G21F-009/02;G21F-009/10;G21F-009/12;

A zinc injection control method and apparatus, a zinc injection system, a computer device, a computer-readable storage medium, and a computer program product. The method comprises: controlling a zinc injection apparatus to perform zinc injection on a loop of a nuclear power plant at a preset zinc injection flow rate; acquiring a real-time zinc concentration and real-time parameters of a unit of the loop; and on the basis of the real-time zinc concentration, the real-time parameters of the unit of the loop and a standard concentration range, performing control on the zinc injection.

• 출원번호 : CN2024/125827
• 출원인 : CHINA NUCLEAR POWER ENGINEERING CO., LTD.;CHINA NUCLEAR POWER DESIGN COMPANY LTD. (SHENZHEN);
• 특허번호 :
• IPC : G21D-003/08(2006.01);G21F-009/00(2006.01);G21C-017/022(2006.01);

In a method of forming a pattern, a photo resist layer is formed over an underlying layer, the photo resist layer is exposed to an actinic radiation carrying pattern information, the exposed photo resist layer is developed to form a developed resist pattern, a directional etching operation is applied to the developed resist pattern to form a trimmed resist pattern, and the underlying layer is patterned using the trimmed resist pattern as an etching mask.

• 출원번호 : 18920346
• 출원인 : Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
• 특허번호 :
• IPC : G03F-007/00(2006.01);G03F-001/22(2006.01);G03F-001/36(2006.01);G03F-001/70(2006.01);G03F-007/40(2006.01);H01L-021/027(2006.01);

A method for producing a semiconductor substrate includes: applying a silicon-containing composition directly or indirectly to a substrate to form a silicon-containing film; applying a composition for forming a resist film to the silicon-containing film to form a resist film; exposing the resist film to radiation; and developing at least the exposed resist film. The silicon-containing composition includes: a silicon-containing compound; a polymer including a structural unit represented by formula (1); and a solvent. A content of the silicon-containing compound in the silicon-containing composition relative to 100% by mass of components other than the solvent in the silicon-containing composition is from 50% to 99.9% by mass. RA1 is a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms; and RA2 is a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.

• 출원번호 : 18919818
• 출원인 : JSR CORPORATION
• 특허번호 :
• IPC : G03F-007/00(2006.01);C08K-005/5419(2006.01);C09D-133/06(2006.01);G03F-007/039(2006.01);G03F-007/075(2006.01);G03F-007/16(2006.01);H01L-021/027(2006.01);